欧莱新材材料研究院

欧莱新材材料研究院共设立了6个市级、省部级科研平台和9个内设研发机构,拥有多名国内外具有先进行业经验的高端人才,研究课题涉及先进铜材料、靶材制备技术、半导体电子材料、薄膜技术、新能源材料(光伏电池、动力电池)、高纯金属、稀散金属、检测分析技术等领域,致力于打造产研用一体化的企业研发创新体系。

6个科研平台

市级、省部级科研平台

高端人才团队

国内外具有先进行业经验的高端人才

9个研发机构

内设研发机构,覆盖全产业链

核心研发设备

마그네트론 스퍼터링 코터

타깃 스퍼터링 검증의 핵심 장비로, 스퍼터링 박막 증착 공정 연구에 사용된다.

극한 진공

≤5.0×10⁻⁶Pa

스퍼터링 전력

DC/RF 500W

기판 크기

≤4인치

온도 범위

RT-800°C

5,500톤 듀얼 액션 압출기

국내 동종 업계 최대 듀얼 액션 구리 압출기 중 하나로, 루위안 생산 기지에 위치하며 고급 구리 합금 소재에 강력한 가공 능력을 제공한다.

공칭 압력

5500톤

컨테이너 직경

Φ280-420mm

압출비

최대 50:1

제품 길이

≤25m

대형 열간 등방성 프레스(HIP)

화남 지역 최대 규격의 열간 등방성 프레스로, 고성능 금속 및 첨단 소재에 치밀화 처리를 제공한다.

최고 온도

1400°C

최고 압력

200MPa

작업 구역

Φ500×1000mm

온도 균일성

±5°C

4탐침 저항 측정 시스템

박막 전도성을 정밀하게 측정하며, 타깃·금속 박막 등 소재의 비저항 시험에 적합하다.

비저항 범위

10⁻⁵~10⁵ Ω·cm

시트 저항

10⁻³~10⁶ Ω/□

측정 정밀도

±0.5%

탐침 간격

1.0mm

브루커 스텝 프로파일러

나노 수준 표면 정밀 검사로, 박막 두께·표면 거칠기 등 형상 파라미터 측정에 사용된다.

수직 분해능

≤0.1nm

스캔 범위

≤50mm

최대 시료 두께

50mm

스테이지 크기

200×200mm

황광 클린룸

반도체급 청정 환경으로, 노광기·현상기 등을 갖추고 포토리소그래피 공정 연구개발에 사용된다.

청정도 등급

Class 1000

리소그래피 해상도

≤1μm

노광 면적

≤6인치

오버레이 정밀도

≤0.3μm

SEM 주사전자현미경

소재의 미세 형상 관찰 및 성분 분석에 사용되며, 분해능은 나노미터 수준에 도달한다.

이차전자 분해능

≤3.0nm@30kV

배율

7X~1,000,000X

가속 전압

200V~30kV

EDS 분석

B-U 원소

XRD X선 회절분석기

소재의 정성·정량 위상 분석으로, 타깃·박막 등 소재의 결정 구조 특성화에 사용된다.

각도 범위

5°~140°(2θ)

측정 정밀도

±0.01°

X선 광원

Cu Kα

최대 출력

3kW

ICP-OES 분광광도계

유도 결합 플라즈마 발광 분광계로, 소재 내 원소 함량 분석에 사용된다.

파장 범위

167-852nm

분석 정밀도

ppm급

검출 한계

ppb급

선형 범위

5-6 오더

ONH 산소·질소·수소 분석기

금속 소재 중 산소·질소·수소 함량을 정밀하게 측정한다.

산소 검출 범위

0.05ppm~5.0%

질소 검출 범위

0.05ppm~3.0%

수소 검출 범위

0.1ppm~0.25%

검출 한계

0.025ppm(O)