나노 산화인듐 분말

선진 공정으로 습식 응집 한계를 극복하여 순도 ≥99.99%, BET 비표면적 ≥13.5 m²/g의 고순도 나노 산화인듐 분말을 안정적으로 양산하며, 입도 분포가 균일하고 분산성이 우수합니다. ITO 타겟 및 투명 도전막의 핵심 기초 분말입니다.